当前光刻机市场被荷兰ASML牢牢把持，占据了60%的份额。而尼康排名第三，差距显著。据日经中文网报道，为迎头赶上，尼康计划在2024年推出新产品，利用成熟技术，避免违反对华出口管制，并寻求在中国市场扭转颓势。在预测2023财年合并净利润将同比下降22%至350亿日元后，尼康显示出对半导体设备和相机影像业务的担忧。尽管高档微单相机销售强劲，但精机业务的低迷影响明显。尽管尼康曾在1990年代领导市场，但在极紫外设备开发方面输给了ASML。公司经营资源分散，1990年代主要向美国英特尔销售尖端设备，但在拓展其他客户方面进展缓慢。光刻机作为半导体制造的核心，尼康在全球市场份额仅为7%，远远落后于ASML（60%）和佳能（31%）。为了应对ASML在极紫外（EUV）设备领域的竞争失利， 作为打开局面的对策，尼康将于2024年夏季时隔24年推出采用成熟技术的光刻机新产品。该款设备使用了1990年代初实用化、被称为“i线”的老一代光源技术。这一举措旨在利用成熟技术，减少成本，可能使产品价格比竞争对手佳能便宜2～3成左右。同时尼康计划通过推出采用老一代技术的设备，规避管制，积极开拓中国市场。这也与实用化已过去四分之一个世纪的“i线”等老一代设备不受出口管制的趋势相符。精机业务本部长滨谷正人表示，正在积极与经济产业省讨论，认为产品不在出口管制范围内，将在中国积极销售。在对华出口管制的背景下，尼康能否通过开拓中国市场扭转局势，将成为其东山再起的关键。尼康计划明年夏季上市老一代技术的光刻机：NSR-2205i据之前的相关报道，尼康表示，NSR-2205iL1 代表了尼康5倍步进技术在过去二十五年中的最重大的更新，将可直接响应客户对这些在芯片制造中发挥重要作用的光刻系统的需求。从官方公布的参数来看，NSR-2205iL1 曝光光源是 i-line（365nm波长），分辨率≤350nm，NA为 0.45，最大曝光场22 mm x 22 mm。
