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内容
日媒:中国欲联手日企开发光刻机
2020-10-14 09:57:32
来源:
EETOP整理
随着美国加强对中国
半导体
企业的制裁与管制,使得过去中国设定到的未来几年内
芯片
自给率要达到7 成的目标存在变数。对此,《日本经济新闻》报导指出,面对美国的制裁,从长远来看,这将反而可能会助长中国
半导体
产业的自立与发展。尤其是为了突破美国对中国的高科技设备封锁,中国方面将联合日本厂商尼康(Nikon)及佳能(Canon)一起研发除
EUV
之外的其他类型光刻机设备。
报导指出,美国近来陆续以禁售令来制裁中国华为与中芯国际等相关企业。就有供应链厂商指出,尽管有美国政府的出口限制,但中国
半导体
企业目前仍在设法迂回避开美国的禁令规定,寻找生路。而其中,与日本企业传出将共同研发光刻机设备就是一例。目前,虽然全世界只有荷兰的艾司摩尔(
ASML
) 可以制造
EUV
光刻机。但是,因为其中大部分基础技术的IP产权都在美国手上,因此荷兰政府之前就曾经宣布不允许
ASML
向中国出口
EUV
光刻机。
只是,除了
EUV
光刻机以外,其他的光刻设备包括日本的Nikon 和Canon 也可以生产。因此,就有知情的业界人士指出,目前中国正看准日本企业的研发能力,计划由中国企业向两家日本公司提供资金,共同进行除
EUV
以外的新型光刻设备开发。而为了因应未来的需求,中国政府也开始着手开发
半导体
制造相关设备和设计软件。
报导指出,目前中国政府的想法,是中国有1,000 多家新兴的
半导体
相关公司,如果透过自行研发光刻机与相关设备、软件,而使得中国华为和中芯国际从这些公司购买
半导体
芯片
生产所需的制造设备与设计软件等,实际上就可以有机会进一步提振整个中国
半导体
产业,这也是中国政府目前极力要发展
半导体
相关设备的主因。
关键词:
ASML
EUV
光刻机
尼康
佳能
EUV光刻机
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