东京工业大学的技术团队已经实现了这一目标，他们用聚电解质制成的聚合物电解质“肥皂泡”作为模板，用激光照射，这种聚合物电解质非常稳定，适合大规模生产。
一旦球体被辐射，研究小组就能够证实发出了与金属锡相同的13.5nm的极紫外(EUV)射线。研究小组认为，他们的新技术可以为先进半导体等电子产品的各种应用铺平道路，作为一种可靠的EUV光源产生手段。
东京工业大学的团队与都柏林大学学院的同事合作，致力于寻找可用于产生EUV光的激光靶，同时保持高效、可扩展和低成本。他们的锡涂层微胶囊 "气泡 "技术是一种可高度控制的低密度结构。它由聚合物电解质组成，然后涂上锡纳米颗粒。
为了对该气泡进行测试，研究小组用钕-YAG激光器对其进行照射。结果是产生了13.5纳米范围内的EUV光，研究小组还发现，该结构与制造半导体的传统EUV光源兼容。
"克服了液态锡动力学的限制，在产生EUV光方面非常有利。"Keiji Nagai教授说。"定义良好的低密度锡靶可以支持多种材料，包括其形状、孔隙大小和密度。"
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