赶超台积电,英特尔的救星在欧洲,但不是疯狂建厂

2021-09-09 12:50:08 来源:EETOP
处理器龙头英特尔8 日宣布,计划10 年内在欧洲新建造至少两家晶圆厂,投资金额高达950亿美元,同时更新爱尔兰晶圆厂,当成专门生产车用芯片的据点。《华尔街日报》指出,英特尔救星的确在欧洲,但并非晶圆厂,而是需从艾司摩尔(ASML)获得尖端设备,缩小与台积电的差距。

《华尔街日报》指出,台积电晶圆代工实力领先英特尔,还帮助英伟达、AMD等对手在关键市场挑战英特尔,引导苹果、亚马逊和Google 等科技巨头设计出自家处理器,抢走英特尔芯片市场的制霸地位。

报道认为,如果想拉近跟台积电的差距,不光是建造更多工厂,很大程度取决于能否能从荷兰商ASML 获得下一代芯片制造设备。ASML是全球唯一量产极紫外光光刻机(EUV)的厂商,台积电、三星、英特尔先进制程都依赖EUV 光刻机生产。

英特尔7 月正式揭露制程与封装技术最新蓝图时,就强调迅速转往下世代EUV 工具计划,称为高数值孔径(High NA)EUV英特尔有望获得业界首款High NA EUV 量产设备。英特尔首席执行官帕特·基尔辛格(Pat Gelsinger)也在7 月提到两家公司的长期合作关系,他表示,一旦最新EUV 设备上市,英特尔就会立即采用。

研究机构半导体顾问公司(Semiconductor Advisors)分析师Robert Maire 认为,如果英特尔优先获得这些设备,很可能在摩尔定律竞赛领先台积电

现阶段每台EUV 光刻机单价将近1.5 亿美元,但ASMLEUV 光刻机目前出货都是光源波长13.5 纳米左右的第一代产品,物镜NA 数孔径是0.33,据ASML 表示,第二代EUV光刻机已进入开发阶段。

ASML 第二代EUV 光刻机型号是NXE:5000 系列,物镜NA 值升到0.55,提高曝光精准度。第二代EUV 光刻机研发阶段曾遭遇瓶颈,所幸神队友东京电子(东京威力科创Tokyo Electron)救援,双方联合发展下一代EUV 光刻机生产,目前预计仍维持2023 年问世。
 


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