三星3纳米良率大幅拉高!

2024-03-23 11:06:58 来源:EETOP
市场传出,三星电子(Samsung Electronics Co.)3 纳米良率大幅拉高,整体表现有机会追上台积电

知名爆料人Revegnus 22日透过社交平台X指出,三星3纳米良率一开始虽只有10%~20%,但最近拉升至三倍以上。

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虽然良率依旧低于使用现有「鳍式场效」(Fin Field-Effect Transistor,FinFET)制程的台积电,但三星对第二代3纳米制程期望甚高,据传看好效能、功耗及面积( Performance、Power、Area,PPA)前景(有谣言暗示可赶上台积电N3P)。

Revegnus表示,消息人士透露,三星3纳米制程的能源效率(power efficiency)、逻辑区域(logic area)都比4纳米FinFET改善20%~30%。

韩国媒体TheElec报道,三星共同CEO庆桂显(Kyung Kye-hyun)20日在年度股东大会预测,今年半导体营收有望重返2022年衰退前水准。

庆桂显指出,存储器事业1月转亏为盈,今年恢复元气,除了高带宽存储器(HBM),开放性高速互连通讯协议CXL(Compute Express Link)、存储器处理器(Processor In Memory, PIM)也与客户接洽,结果很快就能出炉。

三星晶圆代工事业总裁崔时荣(Siyoung Choi)同场合表示,虽然英特尔(Intel Corp.)谈论1.4纳米制程,但三星及台积电都有制程规划。他说,客户要的是稳定供应、产品具竞争力的晶圆代工商,三星4纳米良率已成熟。

崔时荣并表示,第二代3纳米制程下半年投产,2纳米投产时间是明年。


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