领先台积电,三星已开始批量生产6纳米芯片,可能是为高通代工

2020-01-06 12:31:49 来源:EETOP
据韩国媒体businesskorea最新消息,三星电子已经开始大规模生产基于极紫外(EUV)技术的6纳米芯片。自该公司开始大规模生产7纳米产品以来,仅8个月就推出了6纳米产品。三星升级微加工工艺技术的周期正在缩短。特别是,向6纳米EUV工艺的过渡,预计将缩小三星与全球最大芯片制造商台湾台积电(TSMC)之间的差距。

去年12月,三星电子(Samsung Electronics)在京畿道华城校区S3线开始批量生产基于EUV技术的6纳米产品。“据我所知,6纳米制程的产品是提供给北美的大型企业客户的” 三星合作公司的一位官员表示。行业观察人士认为,三星的6纳米产品应该是供应给高通公司。

此前,三星电子在去年4月向全球客户提供了7纳米产品。仅用了8个月就生产出了6纳米的产品。与7纳米产品相比,6纳米产品提供了更好的半导体逻辑尺寸、功率和性能。

三星电子(Samsung Electronics)开始大规模生产6-nm制程产品,对台积电构成了压力。全球市场研究公司TrendForce表示,去年第四季度,台积电占全球代工市场的52.7%,与三星电子(Samsung Electronics) 17.8%的市场份额差距进一步扩大。

三星未能赶超台积电的主要原因是三星在16纳米和12纳米工艺之后开发7纳米工艺的时间较晚。台积电通过其7纳米技术,垄断了苹果(最大的无晶圆厂客户)的AP供应。

相比之下,三星电子(Samsung Electronics)在2014年首次商业化了14纳米鳍场效应晶体管(FinFET)工艺,但在7纳米工艺开发方面输给了台积电(TSMC)。目前,7纳米产品只占三星销售额的一小部分。为了解决这个问题,星正在加紧努力以缩短 7nm以下微加工工艺的开发周期。

继大量生产6纳米产品之后,三星电子计划在今年上半年推出5纳米产品。此外,三星电子有在今年上半年采用正在研发中的最新3纳米全栅极(GAA)工艺技术来制造尖端芯片的计划。GAA被认为是当前FinFET技术的升级版,能确保芯片制造商进一步缩小芯片体积。(参见:三星已攻克3nm关键GAA全能门技术!或将超越台积电实现翻盘
 


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