光刻机霸主ASML在这个领域仅排第二

2021-08-17 13:20:54 来源:EETOP
众所周知,ASML是当今高精尖光刻机市场的绝对龙头老大,特别是其实现先进工艺的EUV超精细图案光刻设备更是成为焦点。但在以图像传感器、功率半导体RFMEMS为代表的所谓More-than-Moore设备的光刻设备,等市场方面,ASML仅屈居第二!

半导体市场趋势研究公司Yole Développement最近给出了一份光刻机行业调查报告,指出了在这一领域日本公司继续保持优势地位。

报告指出,2020年该行业的光刻设备市场规模为10亿美元,其中30%为CMOS图像传感器。87%的More-than-Moore光刻设备为投影式,传统的掩模匹配设备为12%。

佳能在该领域的光刻设备份额位居榜首,占比34%,而位居第二的ASML则以21%的份额扩大实力。此外,先进封装光刻设备市场是由SMEE推动的,它主要依靠中国市场,而德国的SÜSS MicroTec公司已经在掩模对准器方面建立了地位。

佳能在曝光设备市场上占有最大的份额,为34%,但ASML正在取得进展,份额为21%。先进的包装光刻工具市场是由SMEE推动的,它主要依靠中国市场,而德国的SÜSS MicroTec公司已经在掩模对准器方面建立了地位。

半导体光刻设备供应商的地理分布  

2020年,功率器件的光刻设备市场将价值1.98亿美元,佳能以39%的份额领先,ASML第二,占28%,尼康第三,占11%,USHIO第四,占9%。

2020年用于功率器件的光刻设备的市场份额 

面向More-than-Moore的光刻设备 

另外,从面向More-than-Moore的光刻设备的分辨率和价格来看,依次为,掩膜对准器(接近和接触)、全晶圆投影和步进器,价格有逐渐升高的趋势。  

面向More-than-Moore的光刻设备分辨率与价格的相关性

什么是 More-than-Moore ?

摩尔定律(Moore's Law)是半导体行业的核心。按照摩尔定律,晶体管的尺寸随着节点(Node)而缩小。此外,把各种小型、高速的晶体管集成到芯片上这一焦点问题以及人们无限的“欲望”推动着摩尔定律发展到今天。

与旨在通过使此类晶体管小型化来提高性能的“More Moore”不同,“More than Moore”中的元件使数字电子(Digital Electronics)直面模拟世界、代表着科技领域新功能的多样化,随着5G、IoT、无人驾驶、神经传感(Neural Sensor)等各种各样的新应用(Application)的登场,出现了前所未有的变化。

 

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