比EUV节省90%的功耗!佳能将交付第一批纳米压印光刻工具

2024-02-01 11:19:29 来源:EETOP
去年,佳能推出了首款纳米压印光刻(NIL)设备,该设备可以与ASML的极紫外(EUV)和先进的深紫外(DUV)光刻系统竞争。

据英国《金融时报》报道,本周佳能司表示,首批客户将于今年或明年收到第一台 NIL 机器,不过这将用于试运行 。这些新机器的工作原理是在晶圆上压印印记,而不是使用典型的光刻技术进行光学刻录,据称与行业巨头 ASML 的竞争 EUV 机器相比,其能耗降低了 90%。

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佳能光学产品业务负责人 Hiroaki Takeishi 向英国《金融时报》表示,他希望佳能能够在 2024 年和 2025 年开始发货这些机器。这项独特的技术将有助于制造简单、低成本的尖端芯片
佳能的纳米压印光刻技术已经开发了超过 15 年,通过将芯片设计直接压印到硅晶圆上,提供了一种新的芯片制造方法。这种完全不同的方法与依赖激光和光刻胶的传统 DUV 和 EUV 光刻技术形成鲜明对比,并且有望更便宜、更节能。事实上,佳能甚至表示,其 NIL 工具的能耗比 ASMLEUV 工具低 90%。此外,NIL 目前可用于在 5 纳米级工艺技术上构建芯片,最终可能会发展到 2 纳米级节点,该公司表示。 

佳能表示,其纳米压印光刻机的战略不是取代晶圆厂的 DUV 和 EUV 工具,而是与现有工具共存。据《金融时报》报道,如果不是逻辑芯片,NIL 可以用来制造 3D NAND  。 

佳能推出纳米压印技术正值光刻系统需求高涨之际。此外,NIL可能提供更便宜的工具和更便宜的芯片制造。因此,佳能进入尖端制造工具市场可能会打破当前的现状,因为ASML是无可争议的光刻领导者。

然而,由于NIL与DUV和EUV都不兼容,将其插入当前设计流程非常复杂。同时,目前还不清楚是否可能开发一种仅依赖纳米压印技术的制造工艺。因此,佳能的纳米压印技术的成功并不能得到保证,因为它面临着行业分析师的怀疑。研究公司 Radio Free Mobile 的负责人理查德·温莎 (Richard Windsor) 在接受英国《金融时报》采访时表示:“如果纳米压印技术是一项优越的技术,我认为它现在就已经投入使用并大量投入市场。”


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