据英国《金融时报》报道，本周佳能司表示，首批客户将于今年或明年收到第一台 NIL 机器，不过这将用于试运行 。这些新机器的工作原理是在晶圆上压印印记，而不是使用典型的光刻技术进行光学刻录，据称与行业巨头 ASML 的竞争 EUV 机器相比，其能耗降低了 90%。
佳能的纳米压印光刻技术已经开发了超过 15 年，通过将芯片设计直接压印到硅晶圆上，提供了一种新的芯片制造方法。这种完全不同的方法与依赖激光和光刻胶的传统 DUV 和 EUV 光刻技术形成鲜明对比，并且有望更便宜、更节能。事实上，佳能甚至表示，其 NIL 工具的能耗比 ASML 的 EUV 工具低 90%。此外，NIL 目前可用于在 5 纳米级工艺技术上构建芯片，最终可能会发展到 2 纳米级节点，该公司表示。
佳能表示，其纳米压印光刻机的战略不是取代晶圆厂的 DUV 和 EUV 工具，而是与现有工具共存。据《金融时报》报道，如果不是逻辑芯片，NIL 可以用来制造 3D NAND 。
佳能推出纳米压印技术正值光刻系统需求高涨之际。此外，NIL可能提供更便宜的工具和更便宜的芯片制造。因此，佳能进入尖端制造工具市场可能会打破当前的现状，因为ASML是无可争议的光刻领导者。
然而，由于NIL与DUV和EUV都不兼容，将其插入当前设计流程非常复杂。同时，目前还不清楚是否可能开发一种仅依赖纳米压印技术的制造工艺。因此，佳能的纳米压印技术的成功并不能得到保证，因为它面临着行业分析师的怀疑。研究公司 Radio Free Mobile 的负责人理查德·温莎 (Richard Windsor) 在接受英国《金融时报》采访时表示：“如果纳米压印技术是一项优越的技术，我认为它现在就已经投入使用并大量投入市场。”
