支持7nm高端DUV光刻机可出口!ASML绝不能丢失中国市场背后 营收占比高

2023-04-28 08:30:14 来源:快科技

对于中国市场而言,ASML正在全力以赴,预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右(约合人民币超162亿元),其正在加快拓展在中国的业务和销售。

ASML CEO Peter Wennink表示,近几年,由于新冠疫情供应链停滞,芯片行业出现了长达多年的短缺。而现在,由于全球消费电子产品出货量持续下降,科技行业又再次进入半导体供应过剩的窘境。

这位CEO还重申,中国是全球最大的计算机芯片市场,这就要求阿斯麦必须继续获得中国的市场准入权,这是绝对必要的。

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他援引中国一家汽车制造商的话称,这家汽车制造商计划在未来三年制造大量的电动汽车,要求六七家成熟的半导体工厂为其供货,但中国本土的芯片工厂仍处于建设之中。

“阿斯麦与中国市场的往来,无论是对阿斯麦来说,还是对中国客户来说,都十分重要。上周,阿斯麦公布了强劲的第一季度业绩,并称其对中国的销售额将继续增加。”Peter Wennink坚定的说道。

最新财报中,中国企业占阿斯麦第一季度营收的 22%,中国买家占到阿斯麦成熟芯片制造设备订单的3成左右,较去年底占比提升了约10%。

在这之前,ASML强调,新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统,而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。截至目前企业尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息,公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”,即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。

所谓浸没式光刻机,属于193nm(光源)光刻机(分为干式和浸没式),可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造,但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。

ASML公司官网信息显示,该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备:TWINSCAN NXT:1980Di,TWINSCAN NXT:2000i和TWINSCAN NXT:2050i,其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的产品。

ASML官网上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍,其中在分辨率方面,写到是大于等于38nm(可以支持到7nm左右),而这是指一次曝光的分辨率,事实上光刻机是可以进行多次曝光的。

理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm,只是步骤更为复杂,成本更高,良率可能也会有损失,晶圆厂用这一台光刻机,大多是生产14nm及以上工艺的芯片,很少去生产14nm以下的工艺,因为良率低,成本高,没什么竞争力。


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