历史进程里的中国半导体产业 原创 2018-05-04 伐柴 伐柴商心事 2000年3月4日,79岁的复旦大学前校长谢希德先生与世长辞,美国议员科特.韦尔德专程把国会升起的一面国旗送到复旦美国研究中心,以纪念这位为推动中美关系发展做出杰出贡献的女士。维尔德曾是坚定的反华派,过去一直投 ...
1956 年,我国提出“向科学进军”,根据国外发展电子器件的进程,提出了中国也要研究半导体科学,把半导体技术列为国家四大紧急措施之一。 1947年,美国贝尔实验室发明了半导体点接触式晶体管,从而开创了人类的硅文明时代。 1956 年,我国提出“向科 ...
尽管K头与2.4mm头两种连接器各有优缺点,从国防发展动态和从我们考察目前在美国的应用情况看,2.92mm连接器较2.4mm连接器应用更改广泛,因此我们认为2.92mm连接器应作为我国当前优先发展的毫米波同轴连接器系列。因此我们今天着重讨论一下这两种射频同轴连接器中的两巨头的特点及优缺点。 一.2.4mm连接器 早在上世纪80 ...
brian wang | February 15, 2014 Tweet Pin It IBM announced that it has achieved a new technological advancement that will help improve Internet speeds to 200 – 400 Gigabits per secon ...
2018-03-27 网络 鲜枣课堂 ...
by Tarun Agarwal at Electronics 0 Comment At ...
《信号完整性分析》(Signal Integrity : Simplified) Eric Bogatin 李玉山 李丽评 等译 书中第135页第二段写到:“那么,50Ω又是怎样呢?为什么它的应用如此广泛?50Ω有何特别之处?注意,它大致是同轴线几何外形的衰减和可制造性的最佳平衡点。除此之外,50Ω并没有什么神秘之处了。而一直以来,都在沿用这个标准。 ...
关与Suface roughness 铜箔表面粗糙度是指铜箔表面具有的较小间距和微小峰谷的不平度。铜箔表面粗糙度越小,则表面越光滑,反之相反。表面粗糙度与机械零件的配合性质、耐磨性、疲劳强度、接触刚度、振动和噪声等有密切关系。表面粗糙度起因于材料加工过程 Introduction 1.表面 ...
首先,这三个名词对应的应用应该是一样的,都是利用硅化物来降低POLY上的连接电阻。 但生成的工艺是不一样的,具体怎么用单独的中文区分,现在我也还没看到相应资料, 就暂且沿用英文的了。 其中,SILICIDE就是金属硅 ...
from: http://blog.sina.com.cn/s/blog_4cd7b7ad01010ymj.html 一,备份的方法 备份很简单,关键设定正确的备份选项即可(如下图),备份模式选择完整备份即可,备份位置选择自己觉得靠谱的地方,备份方式中记得勾选“包含一个带有备份的febe副本”然后点击左上角的火狐图标——Backup Utilities..——FEBE——执 ...
hebut_wolf
大智慧lcy
teresa_xie
seawang
杭州加速科技
running13
xxxqqq
jijiic
1064170361
ElectroRent
wl1314
PinkBear
mjd888
jwenag
edadoc2013
小黑屋| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网 ( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )
GMT+8, 2024-5-10 02:51 , Processed in 0.030365 second(s), 3 queries , Gzip On, Redis On.