离子注入是现代集成电路制造中的一种非常重要的技术,其利用离子注入机实现半导体的掺杂,即将特定的杂质原子(Dopant)以离子加速的方式注入硅半导体晶体内改变其导电特性并最终形成晶体管结构。 现 代的半导体制造工艺中制造一个完整的半导体器件一般要用到许多步(15~25步)的离子注入。离子注入 ...
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