Peter Wennink在采访中表示，尽管各大半导体公司投资了数十亿甚至数百亿美元以提高产能，然而他们并不可能快速提高产能，因为制约产能的还有半导体设备。
在接下来的两年中，芯片产量的增长将进一步受到设备不足的限制，这都需要时间来解决。
就连ASML公司自己的光刻机生产都受到了限制，不过Intel CEO基辛格此前表示他们已经派人去帮助ASML公司加速生产。
Intel并没有提及他们派出多少工程师以及是怎样帮助ASML提高光刻机产量的，但是他们很可能协助ASML加速新一代EUV光刻机的生产。
现在的EUV光刻机还是NA 0.33技术的，Intel的重点押注在了下一代EUV光刻机，也就是NA 0.55的ASML新一代光刻机，据说成本高达3亿美元，约合19亿元。
实际上4年来Intel实际上已经下单了6台NA 0.55的EUV光刻机，其中分为两种，Twinscan Exe:5000系列主要用于工艺研发，产能输出是185WPH，每小时生产185片晶圆，2023年上半年交付。
量产型的NA 0.55光刻机是Twinscan Exe:5200，产能提升到200WPH，每小时200片晶圆，预计会在2024年下线，Intel的20A工艺正好是在2024年量产。
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