日本发力研发2纳米制造技术

2021-03-24 11:03:19 来源:EETOP
据日经新闻23日报道,日本政府将提供资金援助,协助日本企业研发2 纳米以后的次世代半导体的制造技术,并且将和台积电半导体厂商从事广范围意见交换研发。

Canon等3家日本企业将和产业技术总合研究所(简称产总研)合作,携手研发次世代半导体,而日本经济产业省将提供约420亿日圆(约3.9亿美元)的资金援助,且将和台积电等海外厂商建构合作体制,期望借此重振日本处于落后的最先进半导体的研发。

据报道,除Canon 外,将和产总研合作的企业还有东京威力科创(Tokyo Electron)和SCREEN SemiconductorSolutions,获得经产省资金援助的研发团队目标在2020 年代中期确立2 纳米以后的次世代半导体的制造技术,将设立测试产线,研发细微电路加工、洗净等制造技术,且将和台积电英特尔(Intel)等海外半导体厂商从事广范围的意见交换研发。

台积电2 月9 日宣布,将投资约186 亿日圆在日本茨城县筑波市设立材料研发中心,扩展3DIC 材料研究。

  1. EETOP 官方微信

  2. 创芯大讲堂 在线教育

  3. 创芯老字号 半导体快讯

相关文章

全部评论

  • 最新资讯
  • 最热资讯
@2003-2022 EETOP

京ICP备10050787号   京公网安备:11010502037710