韩媒:不仅EUV,美国恐进一步限制DUV光刻机出口中国

2021-04-14 12:31:55 来源:未知

针对全球性的芯片缺货问题,美国拜登政府才在14 日邀集包括美国欧半导体设备大厂,汽车制造厂商、中国台湾台积电与韩国三星等重量级晶圆代工厂共同参加会议,以讨论解决由美国所主导的半导体供应链失衡的情况。而在此同时,韩国媒体报导,面对中国积极发展半导体产业的态度,美国政府恐怕不仅将禁止极紫外光(EUV)光刻机的出口到中国,恐怕连浸润式ArF 深紫外光(DUV)曝光设备都将被列入禁止出口中国品项。  

韩国媒体《BusinessKorea》最新报导指出,美国拜登政府为限制中国在半导体产业中的地位,日前由美国国家人工智能安全委员会提出了一项政策,希望禁止向中国出口包括浸润式ArF 深紫外光(DUV)的光刻机在内的半导体制造设备。而如果一旦这项计划付诸施行,则目前在中国大陆设有大型晶圆厂的三星与SK 海力士等韩国存储器大厂担心,未来将可能受到进一步的冲击。

报道指出,之前欧盟委员会曾经表示,为了限制中国在半导体产业的地位,美国政府必须与荷兰及日本政府合作,限制相关半导体设备出口到中国。因为前一任的美国特朗普政府已经阻止了荷兰商光刻机大厂艾司摩尔(ASML)出口EUV 光刻机到中国的计划。所以,一旦也限制浸润式ArF 深紫外光光刻机出口到中国,则显示美国禁止更多的半导体设备出口到中国。

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