台积电试产5纳米!三星望尘莫及

2019-04-04 15:03:38 来源:EETOP
晶圆代工厂台积电昨天宣布,5纳米制程已进入试产阶段,在开放创新平台下推出完整的5纳米设计架构,协助客户实现5G人工智能的5纳米系统单芯片设计。台积电表示,相较7纳米制程,5纳米的微缩功能在安谋(ARM)的Cortex-A72核心上能够提供1.8倍的逻辑密度,速度增快15%。

5纳米制程还具有极紫外光(EUV)微影技术所提供的制程简化效益,台积电指出,5纳米制程能提供芯片设计业者全新等级的效能及功耗解决方案,支援下一世代的高阶行动及高效能运算应用产品。台积电研究发展与技术发展副总经理侯永清表示,在5纳米世代,设计与制程需要密切的共同最佳化,台积电与设计生态系统伙伴紧密合作,确保在客户需要时能提供经由验证的硅智财组合与电子设计自动化工具。台积电与Cadence、Synopsys、Mentor Graphics及ANSYS,透过台积电的开放创新平台电子设计自动化验证专案,进行全线电子设计自动化工具的验证。台积电指出,5纳米设计架构包括5纳米设计规则手册、制程设计套件及通过硅晶验证的基础与界面硅智财,并且全面支援通过验证的电子设计自动化工具及设计流程。

三星望尘莫及

根据目前全球芯片制程工艺的分布来看,能够具备7nm一下制程研发生产能力的企业目前仅有台积电、三星以及英特尔。而台积电率先抢占7nm制程高地,为企业带来了丰厚的利润回报和技术储备。

台积电制程技术已经把三星甩在身后,后者预计2020年才会进入7nm EUV时代。

台积电支持极紫外光(EUV)微影技术的7nm加强版(7nm+)制程已经按原计划于3月底量产,全程采用EUV技术的5nm制程已经进入试产阶段。

台积电制程工艺规划

报道称5nm制程享有极紫外光微影技术所提供的制程简化效益,同时也在良率上有明显改善,相较于台积电前几代制程,5nm制程达到了最佳技术成熟度。

虽然目前三星已经先不7nm EUV制程进入量产,但是至今尚未投入使用。三星公布的资料显示,华城厂区预计2019年底才会全面完工,这意味着7nm EUV制程真正大量生产要等到2020年年中。

如果台积电能够按照计划率先实现5nm制程量产,那么无疑苹果、高通、NVIDIA等都不会冒险向三星下订单,而AMD早已宣布7nm以下全面拥抱台积电。业内人士预计,砸下重金投入7nm以下制程的三星势必会通过打价格战抢夺客户资源。 

 

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