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ICC的基础知识

热度 4已有 4314 次阅读| 2018-12-14 14:37 |个人分类:ICC的基础知识|系统分类:芯片设计

1. LEF和DEF的区别;
    DEF(design exchange format):描述设计信息,比如design里有多少个cell,pin,net等
    LEF(library exchange format):决定怎么布局,怎么走线,怎么生成通孔,自动生成物理版图,关键参数如site、 via rule、pitch等。LEF不仅为标准单元,还为IO单元、SRAM以及各种全定制硬宏部件提供物理信息的定义,供布局布线工具使用。
    site:相同单元高度的行,包括std site,I/O site等;
    via rule:不同层的线连接时需要生成不同的通孔,其中包括通孔的距离参数,通孔的偏移间距要求等;
    pitch:布线的间距,水平方向上单位间距有垂直方向走线的金属层决定,水平最优间距应该是垂直间距的最小公倍数        的整数倍。PS:在ICC中,除了ME1和POWER层,各层的track都是相同的,且间距也是相同的。

   
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