日志 [2017年03月18日] 什么是掩模版?

上一篇 / 下一篇  2017-03-18 13:18:33 / 个人分类:PR

 什么是掩模版?
光掩模版也叫MASK,IC行业称Reticle,中文称呼还有光罩,铬板。
掩模版主要作为图形信息的载体,通过曝光过程,将图形转移到被曝光产品(硅片,导电玻璃,铜箔等)上,从而实现图形的转移。
常见的光掩模版有三种,铬版(chrome)、干版,菲林。
主要分两个组成部分,基板和不透光材料。基板通常是高纯度,低反射率,低热膨胀系数的石英玻璃。
铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。
铬的硬度比玻璃略大,虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。应用于芯片制造的光掩模为高敏感度的铬版。
干版涂附的乳胶,硬度小且易吸附灰尘,不过干版还有包膜和超微颗粒干版,其中后者可以应用于芯片制造。

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